靶材是制备薄膜的主要材料之一,比如镀膜靶材,通过磁控溅射在适当的工艺条件下,溅射在基体上形成各种所需功能薄膜的溅射源,简单来说靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料,通过更换不同的靶材得到不同的膜系,根据镀膜工艺不同,对靶材种类选择不同,属于电镀材料的一种。磁控溅射技术优势突出,推动溅射靶材需求不断提升,溅射靶材已成为目前市场应用量很大的 pvd 镀膜材料。
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